Odkrivanje puščanja helija v hladilniku parne komore

    VC je okrajšava za parno komoro, njeno polno ime pa je: tehnologija odvajanja toplote z vakuumsko votlino. V industriji se na splošno imenuje ravna toplotna cev, plošča za izravnavo temperature in plošča za izravnavo toplote. Z nenehnim izboljševanjem gostote moči čipov se VC široko uporablja pri odvajanju toplote CPE, NP, ASIC in drugih visokozmogljivih naprav.

Za odvajanje toplote mobilnih telefonov je grafit na splošno glavni material, kar lahko imenujemo prva generacija odvajanja toplote. Tekočinsko hlajenje z bakrenimi cevmi je druga generacija tehnologije odvajanja toplote, medtem ko je parna komora najnovejša tretja generacija tehnologije odvajanja toplote. Tekočinsko hlajenje VC je mogoče obravnavati kot tehnologijo nadgradnje dimenzij hlajenja s tekočino iz bakrenih cevi. Čeprav oba temeljita na principu faznega prehoda plin-tekočina, je razlika v tem, da ima toplotna cev samo "linearno" efektivno toplotno prevodnost v eni smeri, medtem ko je VC enakovredna dimenzijski nadgradnji od "linije do površine". ", ki lahko bolje odvaja toploto iz vseh smeri.

Zakaj je odkrivanje puščanja helija potrebno za preskus parne komore:

Če je izdelek VC slabo zatesnjen, bo učinkovitost odvajanja toplote zmanjšana, zato je potrebno odkrivanje puščanja. Z vakuumiranjem votline, ko pravi prostor in ozadje detektorja helija dosežeta določeno vrednost, vbrizgajte helij na površino izdelka. Če izdelek pušča, bo helij vstopil v izdelek skozi luknjo za puščanje in ga končno zaznal detektor helija za prikaz stopnje puščanja v realnem času, da bi našli točko puščanja. Izdelek je mogoče tudi zaviti v helij, da se zazna skupna stopnja puščanja.